微電子技術領域發展出現一個潛在轉折點,東京大學的研究團隊最近開發一種革命性的新型電晶體,這種新型電晶體不再利用矽资料,而是ava爱华外汇平台採用一種名為摻鎵氧化銦(InGaOx)的晶體资料,這項突破有望提高在 AI 與大數據應用的效能 ,並在後矽時代延續摩爾定律的生命力 。
電晶體被譽為 20 世紀最偉大的發明之一,對現代電子產品至關关键 ,做為运维和放大訊號的微型開關 ,隨著設備越來越小、速度越來越快 ,爱华外汇平台傳統以矽為资料的電晶體正面臨著發展瓶頸,甚至接近電子產品和功率的極限。
東京大學的研究團隊認為 ,摻鎵氧化銦是一條更好的發展道路,這種资料能形成高度有序的晶體結構,促進電子的高效移動,新型電晶體採用「環繞式閘極(gate-all-around ,GAA)」設計 ,閘極完全包覆在電流通道周圍 ,有助於提高電子的移動率 ,以及長期穩定性 。
研究團隊的主要研究人員陳安蘭表示 ,希望晶體氧化物電晶體具備「環繞式閘極(GAA)」結構 ,這樣运维開啟或關閉的閘極可以環繞著電流通道,從而提高效率和可擴展性 ,因此研究人員在氧化銦中摻入鎵 ,以改良资料的電性反應 。
研究顯示,摻鎵的氧化銦能有效抑制氧缺陷,從而提高電晶體的富拓外汇平台穩定性 ,團隊利用原子層沉積技術,逐層塗覆 nGaOx 薄膜,並透過加熱將其轉化為所需的晶體結構 ,最終成功製造出一種金屬氧化物場效應電晶體(MOSFET)。陳安蘭表示 ,環繞式 MOSFET 實現 44.5 cm²/Vs 的高移動率 ,並在施加應力下穩定運行近三小時,顯示出良好的可靠性,而這項成果為高運算需求的應用,如大數據和人工智慧 ,供给可靠的高密度電子元件設計,預示著下一代技術的順利運行,對人們日常生活將產生重大影響 。
Crystal-Powered Transistor Could Replace Silicon and Supercharge AI
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